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鼎碳石墨 TRIPOD CARBON
鼎碳石墨
TRIPOD CARBON
行业应用 2026-01-03 · 阅读 0

半导体 CVD 石墨件的高纯与低放气:热解碳涂层的价值

半导体 CVD/外延设备里的石墨件对纯度、放气与颗粒要求苛刻。热解碳涂层如何满足半导体级洁净度?

半导体 CVD 石墨件的高纯与低放气:热解碳涂层的价值

半导体为什么对石墨件如此挑剔

半导体 CVD、外延、离子注入等工艺在高真空、高洁净环境进行,石墨件的金属杂质、放气、掉粉都可能直接影响器件良率。

热解碳涂层的价值

与抗氧化涂层的分工

半导体真空 / 惰性工况用热解碳涂层;若是有氧高温则用抗氧化涂层。二者区别见此

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