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鼎碳石墨 TRIPOD CARBON
鼎碳石墨
TRIPOD CARBON
行业应用 2026-06-09 · 阅读 0

碳化硅(SiC)长晶用石墨件与坩埚全解析

第三代半导体 SiC 长晶(PVT 法)在 2000℃ 以上进行,对石墨坩埚、保温件的纯度与耐温要求极高。本文解析 SiC 长晶石墨件。

碳化硅(SiC)长晶用石墨件与坩埚全解析

SiC——第三代半导体

碳化硅(SiC)是新能源汽车、快充、光伏逆变等的关键第三代半导体材料。SiC 单晶多用 PVT(物理气相传输)法在 2000℃ 以上生长。

对石墨件的严苛要求

常用石墨件

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