行业应用
2026-06-09
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碳化硅(SiC)长晶用石墨件与坩埚全解析
第三代半导体 SiC 长晶(PVT 法)在 2000℃ 以上进行,对石墨坩埚、保温件的纯度与耐温要求极高。本文解析 SiC 长晶石墨件。
第三代半导体 SiC 长晶(PVT 法)在 2000℃ 以上进行,对石墨坩埚、保温件的纯度与耐温要求极高。本文解析 SiC 长晶石墨件。
碳化硅(SiC)是新能源汽车、快充、光伏逆变等的关键第三代半导体材料。SiC 单晶多用 PVT(物理气相传输)法在 2000℃ 以上生长。
高温工况可配 1500℃ 超高温抗氧化涂层。SiC 热场石墨件可来图定制。
石墨高温抗氧化涂层要经过前处理、涂覆、固化等工序。本文解析涂层工艺流程与附着力保障,以及为什么涂层能牢固不起…
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石墨高温抗氧化涂层通过在石墨表面形成致密保护层,隔绝氧气、防止高温氧化烧蚀。本文讲清 800℃ 与 1500…
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光伏单晶炉石墨热场件长期处于高温易氧化环境。抗氧化涂层可延长热场寿命、降低更换与停机成本,是光伏降本增效的有…
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